光學薄膜真空鍍膜機
光學薄膜真空鍍膜機
非標定制設備
光學薄膜真空鍍膜機是采用電子束蒸發鍍膜方式,可蒸發各類金屬膜和氧化物,可配離子源輔助沉積,應用于眼鏡、光學鏡頭、精密光學元件、激光等各類行業,可在玻璃,塑料,陶瓷基體上鍍制各種多層薄,如:紅外膜、寬帶增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干截止濾光片、偏振膜、電學膜等。
特點
采用E型電子槍輸出功率穩定,國產優質或進口。
轉動部件采用磁流體引入,長期運轉密封可靠。
工件轉動座運轉平穩可靠,可配行星工件架。
采用PLC+觸摸屏控制, 互鎖保護,可全程自動控制,包括真空系統,烘烤系統,整個蒸發鍍膜過程。
所有零部件均采用國內知名廠家或進口知名品牌,。
應用
鍍制光學膜: 電學膜、金屬膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜
在各種濾光片、玻璃片及塑膠(樹脂)件上鍍制增透膜、帶通膜和截止膜等各種膜系的鍍膜
主要指標
真空腔室尺寸 | Φ600~Φ1300 |
真空系統 | 擴散泵(冷阱)+羅茨泵+機械泵 機械泵+羅茨泵+分子泵 機械泵+羅茨泵+低溫泵 |
極限真空 | 優于1.0×10-4Pa |
真空恢復時間 | 大氣至4×10-3Pa≤15min。 |
電子槍 | E型電子槍,功率10KW;可配置單槍或雙槍,多穴坩堝和環形坩堝。 |
電阻蒸發 | 可選配,1~3組蒸發源 |
工件夾具 | Φ550mm~Φ1100mm |
工件烘烤溫度 | 室溫~350℃,PID控溫 |
膜厚監控系統 | 光學膜厚監控、Inficon SQC310或 IC6 |
離子源 | 可選配Φ12CM ~ Φ16CM的離子源 |
工藝氣體控制 | 1~3只進口MFC控制 |
系統 | PLC控制/工控機全自動控制(可選) |
典型應用
各類光學鏡片鍍膜